真空彩色鍍鋁膜-華福包裝(在線咨詢)-真空彩色鍍鋁膜批發(fā)：

彩色鍍鋁膜,鍍鋁紙,鐳射紙

真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運(yùn)動(dòng)轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單，造價(jià)低廉，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動(dòng)能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價(jià)很高，目前只能在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。

濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），真空彩色鍍鋁膜電話，使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因?yàn)殡x子在電場下易于加速獲得所需要?jiǎng)幽?，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點(diǎn)是設(shè)備比較復(fù)雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。

鍍鋁膜的鋁層附著力檢測

要檢測鍍鋁膜的鋁層附著力，首先確認(rèn)鍍鋁面。通常實(shí)用的方法用手指輕輕的在薄膜的正反面劃一下.膜面一般不會(huì)有明顯的劃痕。鋁層面會(huì)因?yàn)橥饬Φ哪Σ廉a(chǎn)生很明顯的劃痕。

鍍鋁層附著牢度通常的檢測方法是膠帶檢測法，即將長15－20cm ，真空彩色鍍鋁膜廠家，寬0.5-1 inch的3M 膠帶貼合在鍍鋁薄膜的鍍鋁層上并將其壓平，然后以均勻的速度將膠帶剝離，觀察并估計(jì)鍍鋁層被剝離的面積，面積小于10%為一級(jí)、小于30%為二級(jí)、大于30%為三級(jí)。

膠帶檢測法只是一種定性的檢測方法，只適合于一般的定性比較，如果鍍鋁層的附著牢度超過膠帶的粘結(jié)力，則分別不出鍍鋁層附著牢度的差別?，F(xiàn)在常用的定量檢測方法是在一定的溫度、壓力和時(shí)間下，用EAA薄膜（厚度20－50um，AA含量一般在9%左右）與鍍鋁膜的鍍鋁層進(jìn)行熱封，將熱封后的樣品裁成15mm寬，在拉力試驗(yàn)機(jī)上進(jìn)行剝離試驗(yàn)，觀察并記錄剝離力的大小以及鍍鋁層被剝離的面積。

真空彩色鍍鋁膜特點(diǎn)：

鍍鋁層的附著力強(qiáng)，亮度較好，有良好的阻隔作用

1.適宜的阻隔性與滲透性好—包括阻氣包裝、防潮包裝、防水包裝、保香包裝。易于包裝因氧氣、水分作用而氧化變質(zhì)、發(fā)霉腐爛的食品等材料?；瘜W(xué)穩(wěn)定性好，

2.對一般的酸、堿、鹽等介質(zhì)有良好的抗耐能力，較之金屬包裝有很強(qiáng)的優(yōu)勢。光學(xué)性能優(yōu)良，具有很好的透明性可以清楚地看內(nèi)裝物，起到良好的展示、促銷效果。

3.還能染上美麗的圖形、印刷上裝潢圖案。還可以高速自動(dòng)成型、灌裝、熱封，生產(chǎn)。

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